2.目前鸿信研磨已与数百家客户建立并保持了良好的合作关系,五轴机抛光黑皮、铝合金镜面抛光液等优质的产品和服务深受客户的认可。
延伸拓展
产品详情:2.依据机械加工原理、半导体材料工程学、物力化学多相反应多相催化理论、表面工程学、半导体化学基础理论等,对硅单晶片化学机械抛光(CMP)机理、动力学控制过程和影响因素研究标明,化学机械抛光是一个复杂的多相反应,它存在着两个动力学过程:(1)抛光首先使吸附在抛光布上的镜面抛光液中的氧化剂、催化剂等与衬底片表面的硅原子在表面进行氧化还原的动力学过程。这是化学反应的主体。(2)抛光表面反应物脱离硅单晶表面,即解吸过程使未反应的硅单晶重新裸露出来的动力学过程。它是控制抛光速率的另一个重要过程。镜面抛光液的主要产品可以按主要成分的不同分为以下几大类:金刚石镜面抛光液(多晶金刚石镜面抛光液、单晶金刚石镜面抛光液和纳米金刚石镜面抛光液)、氧化硅镜面抛光液(即CMP镜面抛光液)、氧化铈镜面抛光液、氧化铝镜面抛光液和碳化硅镜面抛光液等几类。氧化硅镜面抛光液(CMP镜面抛光液)是以高纯硅粉为原料,经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品。广泛用于多种材料纳米级的高平坦化抛光,如:硅晶圆片、锗片、化合物半导体材料砷化镓、磷化铟,精密光学器件、蓝宝石片等的抛光加工。在用金刚石研磨液对蓝宝石衬底表面进行减薄和粗磨后,表面不可避免的有一些或大或小的划痕。CMP镜面抛光液利用“软磨硬”的原理很好的实现了蓝宝石表面的精密抛光。随着LED行业的快速发展,聚晶金刚石研磨液及二氧化硅溶胶镜面抛光液的需求也与日俱增。
3.鸿信研磨秉承“用心创造优质产品”的企业理想,倡导“务实、认真、敬业、创新”的核心价值观,注重产品的研发和生产。想要了解更多关于镜面抛光液、中框抛光、抛光液产品以及本公司的详细信息,请访问我们的官网:www.hongxinlapping.com,或拨打我们的VIP客户专线:0769-82926150咨询。
联系我时,请说是在北京便民网看到的,谢谢!